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RCA標準清洗

硅片的化學清洗。去除表面的有機物沾污,氧化膜,顆粒和金屬等沾污。

最大支持6寸片。


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服務介紹:

硅片的化學清洗。去除表面的有機物沾污,氧化膜,顆粒和金屬等沾污。

最大支持6寸片。


服務內容:

1. SPM(H2SO4:H2O2)清洗

2. HF(DHF)清洗

3. APM(SC-1: NH4OH /H2O2 /H2O)清洗

4. HPM(SC-2:HCl /H2O2 /H2O)清洗

5. 熱N2吹干

6. 光學檢測


服務說明:

客戶提供:基片及清洗要求,每一步可以單獨指定。

實驗周期:1-2個工作日。視難易程度而定。

收費標準:××元/片次;特殊片另行協商。


成果展示:

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