首頁 - 中心設備 - 薄膜沉積

薄膜沉積-電子束蒸發


電子束蒸發 Kurt J.lesker LAB Line PVD 75 Electron Beam Evaporation

聯系我們
產品信息
屬性參數
成果展示
商家介紹

利用電子束加熱蒸發材料,在基片表面制備高純薄膜。廣泛應用于半導體、光學、超導材料等行業的研究與生產。



1528963199866444.jpg

公司名稱:華慧芯科技(天津)有限公司

平臺簡介: 

    清華大學天津電子信息研究院高端光電子芯片創新中心,占地約800平方米,其中百級黃光區100平方米。中心擁有完整的光電子器件研發設備,支持III-V族半導體、硅基半導體、二維材料、柔性材料、金屬材料等光電子芯片的研發,并具有多個納米尺度的特色工藝模塊和先進表征模塊;配套的測試實驗室提供國際領先的芯片測試分析技術。

    中心在支持天津電子院項目孵化的同時,面向社會開放,提供納米尺度下光電子芯片的制備工藝的解決方案,以提升我國光電子芯片的研發水平和產業化進程。

地址:天津

服務保障:已審核 已通過企業認證


大乐透基本带表走势图